高真空系统 MFLGZK-16-600

Name: 高真空系统 MFLGZK-16-600
Brand: MFL/马弗炉
Availability: InStock

简要描述：600系列高真空系统采用机械泵和分子泵组成的系统，真空度可以到10-5次pa

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高真空系统MFLGZK-16-600

主要特点	600750mm的承重台面，可配合管式炉使用，节约空间。·极限真空度可达到10-4Pa，满足大多数高真空实验要求。·连接管路采用全不锈钢，电抛光制作，零件焊接漏率优于110-9Pa.m3/s。·滚轮上装有制动装置，提高安全性。
基本参数	工作电电压：220V±10%，50~60HZ ·功率： 1KW·工作环境温度：5~32℃·空气相对湿度： ≤80%·系统极限真空度：1.0*10-4Pa·抽气速率： N2--33 L/s、He--39 L/s、H2--32 L/s
TVP-9机械泵	抽气速率：9L/S·电机功率：0.75KW ·极限压强4*10-2Pa
分子泵控制电源	电压：200~240V· 输出功率：150W· 加速时间：3分钟· 输出频率：高速704Hz±10%低速430 Hz±10%

F-160/620C分子泵	润滑油量	150ml	压缩比	N2:10 的 5 H2:6*10的4
	启动时间	＜10min	冷却水温度	＜25℃
	输出频率	400Hz+10Hz	输出电压	120V
	启动电流	5A	工作电流	2A
	进气口通径	DN160LF	排气口通径	KF40mm
	抽气速率	600L/s	极限压强	6*10-7Pa
复合真空计	测量范围：1.0x10 - 1.0x10-5pa 探测路数：2 路显示方式：LED 数显功耗：55W 控制精度：±1% 响应时间：<1S

开启式真空管式炉是一种广泛应用于材料科学、物理化学研究以及工业生产的特种加热设备。它的设计允许在真空或特定气氛条件下对样品进行加热处理，适用于半导体材料生长、纳米材料合成、陶瓷烧结、金属热处理等多个领域。

开启式真空管式炉基本构造

1.加热区：通常由电阻丝、石墨或感应线圈构成，负责产生所需的高温环境。

2.真空腔体：配备有气密门，可在真空或惰性气体环境下操作，确保实验的纯净度。

3.温控系统：包括PID控制器、热电偶或红外辐射计，实现温度的精确调节与监控。

4.抽气系统：配置机械泵或涡轮分子泵，抽取炉内空气，达到所需真空度。

5.安全防护：设有过热保护、漏电断路等机制，保障操作者的安全。

开启式真空管式炉主要特征

1.气氛可控：可选择不同气体填充，适应不同的实验条件。

2.操作灵活：开启式设计便于样品装载，节省时间和劳动强度。

3.结构紧凑：占地面积小，适合实验室空间有限的情况。

开启式真空管式炉应用领域

1.新材料开发：合成新型半导体材料，如碳纳米管、石墨烯等。

2.金属合金制备：在真空中熔炼合金，去除杂质，改善性能。

3.催化作用研究：探索催化剂在高温、低氧条件下的活性变化。

4.生物医学工程：生产医用钛合金植入物，需在严格无菌条件下成型。

5.考古学：考古样品的老化实验，模拟古代物品经历的时间环境。

6.艺术创作：特殊玻璃艺术品制作，利用不同气氛下的颜色反应。

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